Facility 磁性薄膜成長装置/Film growth 分子線エピタキシー装置/Molecure Beam Epitaxy (原子層制御された単結晶多層膜を作製できる/Growth of atomically controlled ultrathin epitaxial films) 原子層を制御して積層した単結晶ナノ構造の断面電子顕微鏡写真(物材研・産総研と共同研究)(STEM image of an atomically controlled epitaxial multilayer, with NIMS and AIST) スパッタ成膜装置/Sputter deposition (原子層オーダーの多層膜を効率よく作製できる/Efficient growth of ultrathin multilayers) 微細加工装置/Micro fabrication 電子ビーム露光装置/Electron Beam Lithography (100nm程度までの素子の露光ができる/Lithography of devices down to 100 nm level) イオンミリング装置/Ion milling (原子層オーダーで正確に膜を削ることができる/Atomically controlled milling system) 作製する素子の例/Examples of the devices ( Left:微小磁性体リザバー計算機 /Reservoir calculator Right:スキルミオンブラウニアン計算回路 /Skyrmion Brownian circuit ) 測定装置/Measurement systems 高周波特性測定装置/High frequency measurement system (GHz帯のスピン波の伝搬特性などを評価/Generation and detection of spin waves in GHz range) 磁気光学顕微鏡, ULVAC, 産総研との共同研究/MOKE(Magneto-optical Kerr effect) microscope with ULVAC and AIST (右は観察中のスキルミオン列/Right screen shows observed skrmions in wires) 磁気光学顕微鏡で観察したスキルミオンのブラウン運動/Brownian mortion of skrmions SPring-8に開発中の微小領域磁気特性観察装置の 操作画面 / Control panel of the nano-scale magnetic propertiy measurement system under development