Facility

磁性薄膜成長装置/Film growth

分子線エピタキシー装置/Molecure Beam Epitaxy
(原子層制御された単結晶多層膜を作製できる/
Growth of atomically controlled ultrathin epitaxial films)
原子層を制御して積層した単結晶ナノ構造の断面電子顕微鏡写真(物材研・産総研と共同研究)(STEM image of an atomically controlled epitaxial multilayer, with NIMS and AIST)
スパッタ成膜装置/Sputter deposition
(原子層オーダーの多層膜を効率よく作製できる/
Efficient growth of ultrathin multilayers)

微細加工装置/Micro fabrication

電子ビーム露光装置/Electron Beam Lithography
(100nm程度までの素子の露光ができる/Lithography of
devices down to 100 nm level)
イオンミリング装置/Ion milling
 (原子層オーダーで正確に膜を削ることができる/
Atomically controlled milling system)
作製する素子の例/Examples of the devices
 ( Left:微小磁性体リザバー計算機 /Reservoir calculator
Right:スキルミオンブラウニアン計算回路 /Skyrmion Brownian circuit )

測定装置/Measurement systems

高周波特性測定装置/High frequency measurement system
(GHz帯のスピン波の伝搬特性などを評価/Generation and detection of spin waves in GHz range)
磁気光学顕微鏡, ULVAC, 産総研との共同研究/MOKE(Magneto-optical Kerr effect) microscope with ULVAC and AIST
 (右は観察中のスキルミオン列/Right screen shows observed skrmions in wires)
磁気光学顕微鏡で観察したスキルミオンのブラウン運動/Brownian mortion of skrmions
SPring-8に開発中の微小領域磁気特性観察装置の 操作画面 / Control panel of the nano-scale magnetic propertiy measurement system under development